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JC-HPGe-100高純鍺γ能譜儀

更新時(shí)間:2024-04-22

訪問(wèn)量:2340

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

生產(chǎn)地址:

簡(jiǎn)要描述:
JC-HPGe-100高純鍺γ能譜儀是應(yīng)用在粒子物理、天體物理及核物理等領(lǐng)域的重要設(shè)備,在微量核素分析,材料科學(xué)等方面也起著極為重要的作用。隨著核電及輻射環(huán)保事業(yè)的發(fā)展,高純鍺探測(cè)器也服務(wù)于核電安全,輻射環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域。其具有探測(cè)效率高,穩(wěn)定性好,分辨率佳的特點(diǎn),在各領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用。
品牌其他品牌測(cè)量方式定時(shí)測(cè)量
產(chǎn)地國(guó)產(chǎn)加工定制

JC-HPGe-100高純鍺γ能譜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

JC-HPGe-100高純鍺γ能譜儀是應(yīng)用在粒子物理、天體物理及核物理等領(lǐng)域的重要設(shè)備,在微量核素分析,材料科學(xué)等方面也起著極為重要的作用。隨著核電及輻射環(huán)保事業(yè)的發(fā)展,高純鍺探測(cè)器也服務(wù)于核電安全,輻射環(huán)境監(jiān)測(cè)等領(lǐng)域。其具有探測(cè)效率高,穩(wěn)定性好,分辨率佳的特點(diǎn),在各領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用。

JC-HPGe-100一款實(shí)驗(yàn)室高純鍺γ能譜儀,儀器操作簡(jiǎn)單、使用方便,智能化程序高。能譜數(shù)據(jù)自動(dòng)測(cè)量,自動(dòng)保存,可應(yīng)用于建材、土壤、地質(zhì)樣品等γ能譜測(cè)量分析。

技術(shù)性能指標(biāo)

1)高純鍺探測(cè)器

類型:寬能型高純鍺探測(cè)器

探測(cè)器尺寸:面積52cm2,探測(cè)器厚度30mm

能量范圍:3keV-3MeV

垂直冷指設(shè)計(jì)

相對(duì)效率:48%

能量分辨率:

1.80keV@1332keV

0.45keV @ 5.9keV

0.70keV @ 122keV

探測(cè)器材料采用超低本底材料制成,其中鋁:99.999%純度,U、Th 含量低于1ppb;銅:99.99%純度;不銹鋼 Co-60含量低;復(fù)合碳纖維

前放與探測(cè)器分離,位于超低本底鉛室外部

2)數(shù)字化多道分析器

電子學(xué)類型:一體化數(shù)字電子學(xué)

道數(shù):16k

TCP/IP 協(xié)議通訊;內(nèi)置 WEB 服務(wù)器

測(cè)量模式:PHA(脈沖高度分析)

電子學(xué)內(nèi)置高壓,放大器,多道等

增益范圍 x1.6tox360

數(shù)字濾波器上升時(shí)間 0.4-30μ s,平頂時(shí)間 0-2.8μ s

積分非線性:在選擇范圍頂上 99, ≤滿刻度的±0.025%;微分非線性:在包括來(lái)自積分非線性影響的頂上 99%的范圍上,≤±1%

系統(tǒng)增益段可選擇為:16 384, 8192 , 4096, 2048, 1024 512

脈沖對(duì)分辨率– 對(duì)選擇的NORM探測(cè)器類型,好于500 ns

3)原裝超低本底鉛室

鉛室類型:超低本底鉛室,一體化鑄造,配套環(huán)型鉛塞

外形及開(kāi)門(mén)方式:圓柱形,頂開(kāi)門(mén)

50-2000keV 范圍內(nèi)的本底計(jì)數(shù)率≤1CPS

外層 9.5mm 厚低碳鋼, 中層 15cm 厚鉛(其中 12.5cm 厚低本底鉛,內(nèi)層2.5cm含量低于25Bq/kg 的超低本底鉛);內(nèi)襯1mm厚的錫及1.6mm厚的銅

帶有通氣孔,可為測(cè)量室通入氮?dú)?,進(jìn)一步降低系統(tǒng)本底。

4)譜分析及獲取軟件

采用成熟的操作分析平臺(tái)

可進(jìn)行譜獲取,參數(shù)設(shè)定等功能

內(nèi)置可編輯核素庫(kù):預(yù)制庫(kù)文件包含核素大于 200

符合相加校正

包含能夠滿足軟件運(yùn)行要求的數(shù)據(jù)處理終端

5)無(wú)源效率刻度軟件

能對(duì)三通管、螺帽、螺栓等任何可編輯其形狀的不規(guī)則樣品進(jìn)行效率刻度

提供 3D 視覺(jué)高速創(chuàng)建幾何條件和錯(cuò)誤識(shí)別功能

支持真正的無(wú)源級(jí)聯(lián)符合求和校正-不需要基于源的 P/T 刻度

采用總效率算法,包括沉積校正

可以創(chuàng)建多個(gè)體源的復(fù)合效率

提供自動(dòng)刻度功能

刻度可以像用傳統(tǒng)技術(shù)產(chǎn)生的刻度一樣存儲(chǔ)、重新調(diào)出和使用

包括通常市場(chǎng)可提供的容器的庫(kù),常見(jiàn)吸收體材料庫(kù)和創(chuàng)立新材料類型工具

提供無(wú)源效率刻度對(duì)多種體源的驗(yàn)證及誤差分析的報(bào)告




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