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DM2300型 X熒光分析儀

更新時間:2024-04-14

訪問量:6343

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

生產(chǎn)地址:

簡要描述:
DM2300型 X熒光分析儀(或稱X熒光光譜儀),儀器采用了能量色散X射線熒光分析技術(shù),能分析從鋁(原子序數(shù)13)到鈾(原子序數(shù)92)的所有元素,對大多數(shù)元素分析的含量可低至1ppm高至,還能進行鍍層厚度測量。具有分析速度快、精度高、人為誤差小、操作簡便、只需一次性投資、無污染等特點,故廣泛應用于電子電氣、建材、冶金、石油、化工、地質(zhì)、礦山等各行各業(yè)。
產(chǎn)地國產(chǎn)加工定制

DM2300型 X熒光分析儀

DM2300型 X熒光分析儀產(chǎn)品簡介

專門針對RoHS/ELV/玩具/包裝/首飾等中有害元素及無鹵化中鹵素的測量
能同時測量Cl/Cr/As/Se/Br/Cd/Sb/Ba/Hg/Pb等元素

DM2300型X熒光分析儀(或稱X熒光光譜儀),儀器采用了能量色散X射線熒光分析技術(shù),能分析從鋁(原子序數(shù)13)到鈾(原子序數(shù)92)的所有元素,對大多數(shù)元素分析的含量可低至1ppm高至,還能進行鍍層厚度測量。具有分析速度快、精度高、人為誤差小、操作簡便、只需一次性投資、無污染等特點,故廣泛應用于電子電氣、建材、冶金、石油、化工、地質(zhì)、礦山等各行各業(yè)。

主要技術(shù)指標
1. 分析元素種類:Cl氯、鉻Cr、砷As、硒Se、溴Br、鎘Cd、銻Sb、鋇Ba、汞Hg、鉛Pb等。
2. 有害元素及鹵素含量分析范圍: 5~3000ppm。
3. 系統(tǒng)分析時間: 300s (典型值)。
4. 分析精度:理想狀態(tài)下,測量精度為2~3ppm;
       一般狀態(tài)下,測量相對誤差為10%。
5. 檢出限: ≤2 ppm。
6. X射線光管: 高壓:≤50kV, 電流:≤1mA,均連續(xù)可調(diào)。
7. 準直器: Ф1mm、Ф3mm、Ф5mm、Ф7mm共4個可自動切換。
8. 系統(tǒng)能量分辯率: 對于MnK5.9keV的X射線,其半高寬:≤155 eV。
9. 長時間穩(wěn)定性: 開機1小時后,整機8小時穩(wěn)定性:峰位和峰面積相對標準偏差均小于0.1%。
10. 樣品室體積: 長×寬×高:480 mm×350 mm×125mm。
11. 使用條件: 環(huán)境濕度:5~30℃,相對濕度≤80%(25℃),供電電源:220±20V,50Hz。
12. 整機功耗: ≤150W。
13. 尺寸與重量: 長×寬×高:503 mm×412 mm×478mm;重量:45Kg。

儀器特點:
1. 采用EDXRF物理分析方法,分析中不接觸、不破壞樣品,無需化學試劑等其他輔助材料。
2. 多元素同時快速分析,一般幾分鐘給出Cl氯、鉻Cr、砷As、硒Se、溴Br、鎘Cd、銻Sb、鋇Ba、汞Hg、鉛Pb等元素的ppm含量結(jié)果。
3. 采用X光管激發(fā),光管高壓的電壓和電流可調(diào),使儀器達到zui高的激發(fā)效率和*的計數(shù)率。。
4. 具有4個濾色片和4個準直器,可任意自動轉(zhuǎn)換組合,使儀器達到*的計數(shù)率和zui高的峰背比,從而有*的精度和很小的檢出限。
5. 采用高分辨率的PIN半導體探測器,有效避免元素的相互干擾。
6. 采用高分辨率的CCD攝像頭,樣品平臺可移動,從而保證測量目標位置的準確。
7. 由計算機進行顯示、操作和數(shù)據(jù)處理,從而使操作簡便,分析快速準確。
8. 儀器集成化程度高,可靠性好,維修方便。環(huán)境適應能力強,穩(wěn)定性好。
9. 采用內(nèi)標方法及具有自主知識產(chǎn)權(quán)的分譜技術(shù),在無標準樣品時亦可準確分析樣品。
10. 樣品室體積大,能測量大件物品。
11. 價格功能比低,適合我國國情。
12. 設(shè)計對屏蔽防護*,無三廢公害,射線防護安全可靠。

重量: 長×寬×高:560×470×150mm;重量:23Kg。

 

span>≤0.09%,∣△Fe2O3%∣≤0.10%。
7.使用條件: 環(huán)境溫度:5~40℃,相對濕度:≤85%(30℃),供電電源:220V±20V, 50Hz。
8.整機功耗: ≤50W。
9.尺寸及重量: 470mm×365mm×130mm,15kg。

 

 

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